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行业光刻机行业
光刻机行业报告-中国光刻机行业深度调研及投资战略规划研究报告2023-2030年【全新修订】：2023年6月
【出版机构】：中赢信合研究网
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**章 光刻机行业相关概述1.1 光刻机的基本介绍1.1.1 概念界定1.1.2 构成结构1.1.3 工作原理1.1.4 工艺步骤1.1.5 工艺特点1.2 光刻机的性能指标1.2.1 分辨率1.2.2 物镜镜头1.2.3 光源波长1.2.4 曝光方式1.2.5 套刻精度1.2.6 工艺节点1.3 光刻机的演变及分类1.3.1 摩尔定律1.3.2 光刻机的演变1.3.3 光刻机的分类第二章 2020-2023年国际光刻机行业发展分析2.1 光刻机行业产业链分析2.1.1 光刻机产业链基本构成2.1.2 光刻机产业链上游分析2.1.3 光刻机产业链中游分析2.1.4 光刻机产业链下游分析2.2 全球光刻机行业发展综述2.2.1 经济发展环境2.2.2 产业发展历程2.2.3 研发难度水平2.2.4 市场发展规模2.2.5 市场竞争格局2.2.6 价格水平状况2.3 全球光刻机细分市场分析2.3.1 细分产品结构2.3.2 i-line光刻机2.3.3 KrF光刻机2.3.4 ArF光刻机2.3.5 ArFi光刻机2.3.6 EUV光刻机2.4 全球光刻机重点企业运营情况：ASML2.4.1 企业发展概况2.4.2 企业发展历程2.4.3 产业的生态链2.4.4 创新股权结构2.4.5 经营状况分析2.4.6 产品结构分析2.4.7 光刻业务状况2.4.8 技术研发进展2.4.9 企业战略分析2.5 全球光刻机重点企业运营情况：Canon2.5.1 企业发展概况2.5.2 经营状况分析2.5.3 企业业务分析2.5.4 光刻业务状况2.5.5 现有光刻产品2.5.6 技术研发现状2.6 全球光刻机重点企业运营情况：Nikon2.6.1 企业发展概况2.6.2 经营状况分析2.6.3 企业业务结构2.6.4 光刻业务状况2.6.5 企业光刻产品2.6.6 光刻技术研发2.6.7 光刻业务新布局第三章 2020-2023年中国光刻机行业政策环境分析3.1 中国半导体产业政策分析3.1.1 行业主管部门与监管体制3.1.2 重要政策梳理3.1.3 促进政策分析3.1.4 地方政策总结3.2 中国半导体行业政策主要变化3.2.1 规划目标的变化3.2.2 发展侧重点变化3.2.3 财税政策的变化3.2.4 扶持主体标准变化3.3 中国光刻机行业相关支持政策3.3.1 产业重要政策3.3.2 补贴战略项目3.3.3 扶持配套材料3.3.4 政策发展建议第四章 2020-2023年中国光刻机行业发展环境分析4.1 中美科技战影响分析4.1.1 《瓦森纳协定》解读4.1.2 美方对华发动科技战原因4.1.3 美对中科技主要措施4.1.4 中美科技领域摩擦的影响4.2 经济环境分析4.2.1 宏观经济概况4.2.2 对外经济分析4.2.3 工业运行情况4.2.4 宏观经济预测4.3 投融资环境分析4.3.1 半导体行业资金来源4.3.2 大基金一期完成情况4.3.3 大基金一期投向企业4.3.4 大基金二期实行现状4.3.5 各省市资金扶持情况4.4 人才需求环境分析4.4.1 从业人员规模状况4.4.2 人才缺口情况分析4.4.3 产业人才结构特点4.4.4 集成电路学院成立4.4.5 人才发展的相关建议第五章 2020-2023年中国光刻机行业发展综况5.1 中国光刻机行业发展综述5.1.1 行业发展背景5.1.2 行业发展历程5.1.3 行业发展现状5.1.4 产业上游分析5.1.5 产业下游分析5.2 中国光刻机行业运行状况5.2.1 行业驱动因素5.2.2 企业区域分布5.2.3 国内采购需求5.2.4 国产供给业态5.2.5 行业投融资情况5.2.6 企业融资动态5.3 2020-2023年中国光刻机进出口数据分析5.3.1 进出口总量数据分析5.3.2 主要贸易国进出口情况分析5.3.3 主要省市进出口情况分析5.4 中国光刻机行业发展问题5.4.1 主要问题分析5.4.2 产业发展挑战5.4.3 行业发展痛点5.4.4 行业发展风险5.5 中国光刻机行业发展对策5.5.1 整体发展战略5.5.2 增加科研投入5.5.3 加快技术突破5.5.4 加强人才积累第六章 2020-2023年光刻机产业链上游分析6.1 光刻核心组件重点行业发展分析6.1.1 双工作台6.1.2 光源系统6.1.3 物镜系统6.2 光刻配套设施重要行业发展分析6.2.1 光刻气体6.2.2 光掩膜版6.2.3 检测设备6.2.4 涂胶显影6.3 光刻核心组件重点企业解析6.3.1 双工作台：华卓精科6.3.2 浸没系统：启尔机电6.3.3 曝光系统：国科精密6.3.4 光源系统：科益虹源6.3.5 物镜系统：国望光学6.4 光刻配套设施重点企业解析6.4.1 配套光刻气：华特气体、凯美特气6.4.2 光掩膜版：清溢光电、菲利华6.4.3 缺陷检测：东方晶源6.4.4 涂胶显影：芯源微第七章 2020-2023年光刻机上游——光刻胶行业分析7.1 光刻胶行业发展综述7.1.1 光刻胶的定义7.1.2 光刻胶的分类7.1.3 光刻胶重要性7.1.4 技术发展趋势7.2 全球光刻胶行业发展7.2.1 光刻胶产业链7.2.2 行业发展历程7.2.3 市场发展规模7.2.4 细分市场分析7.2.5 竞争格局分析7.3 中国光刻胶企业发展7.3.1 国产市场现状7.3.2 行业发展规模7.3.3 企业布局分析7.4 国产光刻胶重点企业运营情况7.4.1 彤程新材料集团股份有限公司7.4.2 江苏南大光电材料股份有限公司7.4.3 苏州晶瑞化学股份有限公司7.4.4 江苏雅克科技股份有限公司7.4.5 深圳市容大感光科技股份有限公司7.4.6 上海新阳半导体材料股份有限公司7.5 光刻胶行业投资壁垒分析7.5.1 技术壁垒7.5.2 客户认证壁垒7.5.3 设备壁垒7.5.4 原材料壁垒第八章 2020-2023年光刻机产业链下游应用分析8.1 芯片领域8.1.1 芯片相关概念8.1.2 芯片制程工艺8.1.3 行业运营模式8.1.4 芯片产品分类8.1.5 产业销售规模8.1.6 市场结构分析8.1.7 产量规模走势8.2 芯片封装测试领域8.2.1 封装测试概念8.2.2 市场规模分析8.2.3 市场竞争格局8.2.4 国内重点企业8.2.5 封测技术发展8.2.6 行业发展趋势8.3 LED领域8.3.1 LED行业概念8.3.2 行业产业链条8.3.3 产业市场规模8.3.4 全球竞争格局8.3.5 应用领域分析8.3.6 行业发展趋势第九章 2020-2023年光刻机行业技术发展分析9.1 全球光刻技术发展综述9.1.1 全球技术演进阶段9.1.2 全球技术发展瓶颈9.1.3 全球技术发展方向9.2 中国光刻技术发展态势9.2.1 中国研发进展分析9.2.2 国内技术研发状况9.2.3 中国发展技术问题9.2.4 光刻技术研究方向9.3 光刻机技术专利申请分析9.3.1 专利申请规模9.3.2 专利申请类型9.3.3 主要技术分支9.3.4 主要申请人分布9.3.5 技术创新热点9.4 光刻机重点技术分析9.4.1 接触接近式光刻技术9.4.2 投影式光刻技术9.4.3 步进式光刻技术9.4.4 双工作台技术9.4.5 双重图案技术9.4.6 多重图案技术9.4.7 浸没式光刻机技术9.4.8 较紫外光刻技术9.5 “02专项”项目分析9.5.1 “02专项”项目概述9.5.2 “光刻机双工件台系统样机研发”项目9.5.3 “较紫外光刻关键技术研究”项目9.5.4 “**分辨光刻装备研制”项目第十章 2020-2023年中国光刻机成员企业运营分析10.1 上海微电子装备（集团）股份有限公司10.1.1 企业发展概况10.1.2 产品业务分析10.1.3 经营情况分析10.1.4 企业竞争劣势10.1.5 企业股权结构10.1.6 技术研究分析10.2 合肥芯碁微电子装备股份有限公司10.2.1 企业发展概况10.2.2 技术研发分析10.2.3 经营效益分析10.2.4 业务经营分析10.2.5 财务状况分析10.2.6 核心竞争力分析10.2.7 产品研发进展10.2.8 未来前景展望10.3 无锡影速半导体科技有限公司10.3.1 企业发展概况10.3.2 企业股权结构10.3.3 产品结构分析10.3.4 技术研发分析10.4 北京半导体**设备*10.4.1 企业发展概况10.4.2 企业客户构成10.4.3 产品结构分析10.4.4 技术研发分析10.4.5 核心竞争力分析10.5 成都晶普科技有限公司10.5.1 企业发展概况10.5.2 业务经营分析10.5.3 技术研发分析10.5.4 核心竞争力分析第十一章 2023-2030年中国光刻机市场前景分析11.1 光刻机行业发展前景11.1.1 全球光刻机需求机遇分析11.1.2 全球光刻机产品研发趋势11.1.3 中国光刻机行业前景展望11.1.4 中国光刻机技术发展机遇11.1.5 中国光刻机市场需求机遇11.2 “十四五”时期光刻机行业发展展望11.2.1 先进制程推进加快光刻机需求11.2.2 材料设备发展加速产业链完善11.2.3 地区发展规划提及光刻机行业11.3 2023-2030年中国光刻机行业预测分析11.3.1 2023-2030年中国光刻机行业影响因素分析11.3.2 2023-2030年中国光刻机下游应用市场预测
图表目录图表1 光刻机结构图表2 光刻机组成部分及作用图表3 光刻机工作原理图表4 正性光刻和负性光刻图表5 光刻工艺流程图图表6 IC制造工序图表7 光刻机光源类型图表8 接触式曝光分类图表9 投影式曝光分类图表10 各个工艺节点和工艺及光刻机类型的关系图图表11 EUV光刻机发展规划路径图表12 接近接触式光刻分类图表13 光刻机分类图表14 光刻机产业链图表15 光刻机组成结构及特点图表16 光刻机上下游市场产业链及关键企业图表17 光刻机产品图表18 全球光刻机市场除ASML、Canon、Nikon规模以上企业图表19 1980年代末美国光刻机“三成员”被收购或被迫转型图表20 阿斯麦光刻机主要供应商汇总一览表图表21 2015-2021年全球TOP3企业光刻机销量图表22 2019-2021年全球TOP3企业光刻机营业收入图表23 光刻机三大公司技术现状图表24 2021年光刻机**出货情况图表25 2021年全球光刻机TOP3市场份额占比情况图表26 2014-2021年全球光刻机TOP3销量变动图表27 2020年光刻机全球市场的产品结构（销量）图表28 2020年光刻机全球市场的产品结构（金额）图表29 2015-2020年光刻机各类产品销量图表30 2015-2020年各类光刻机产品全球销售额图表31 **大光刻机企业i-line产品图表32 2017-2020年i-line光刻机销量图表33 **大光刻机企业KrF产品图表34 2017-2020年KrF光刻机销量图表35 **大光刻机企业ArF产品图表36 2017-2020年ArF光刻机销量图表37 **大光刻机企业ArFi产品图表38 2017-2020年ArFi光刻机销量图表39 ASML EUV产品图表40 2017-2020年EUV光刻机销量图表41 2011-2020年EUV光刻机单价变动图表42 ASML产业链企业分布图表43 ASML主要上游供应商图表44 ASML获得投资情况图表45 2019-2020财年阿斯麦公司综合收益表图表46 2019-2020财年阿斯麦公司收入分地区资料图表47 2020-2021财年阿斯麦公司综合收益表图表48 2020-2021财年阿斯麦公司收入分地区资料图表49 2021-2022财年阿斯麦公司综合收益表图表50 ASML光刻机升级历程图表51 ASML产品分类图表52 ASML高NA系统路线图图表53 Canon发展历程图表54 2019-2020年佳能公司综合收益表图表55 2019-2020年佳能公司分部资料图表56 2019-2020年佳能公司收入分地区资料图表57 2020-2021年佳能公司综合收益表图表58 2020-2021年佳能公司分部资料图表59 2020-2021年佳能公司收入分地区资料图表60 2021-2022年佳能公司综合收益表图表61 2021-2022年佳能公司分部资料图表62 2021-2022年佳能公司收入分地区资料图表63 Canon现有光刻机产品图表64 光刻工艺与纳米压印光刻对比图表65 尼康发展历程图表66 2020-2021财年日本尼康综合收益表图表67 2020-2021财年日本尼康分部资料图表68 2020-2021财年日本尼康收入分地区资料图表69 2021-2022财年日本尼康综合收益表图表70 2021-2022财年日本尼康分部资料图表71 2021-2022财年日本尼康收入分地区资料图表72 2022-2023财年日本尼康综合收益表图表73 2022-2023财年日本尼康分部资料图表74 NSR-S635E性能参数图表75 NSR-S622D性能参数图表76 NSR-S622D性能参数图表77 NSR-S622D性能参数图表78 NSR-S622D性能参数图表79 尼康2016-2020年研发支出情况图表80 尼康平板显示器的制造工艺以及FPD曝光装置图表81 半导体产业历史上重要支持政策图表82 《国家集成电路产业发展推进纲要（2014）》规划目标图表83 集成电*策规划目标变化历程图表84 集成电路产业政策扶持重点变化历程图表85 《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》旧财税政策变化图表86 《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》新增财税政策图表87 集成电路财税政策变化历程图表88 集成电*策扶持企业变化历程图表89 光刻机产业历史上重要支持政策图表90 协议中针对军民两用产品和技术控制清单图表91 瓦森纳对中技术管控升级图表92 2017-2021年中国R&D经费投入及其增长率变化图表93 美国对华科技图表94 2017-2021年国内生产总值及其增长速度图表95 2017-2021年三次产业增加值占国内生产总值比重图表96 2022年GDP初步核算数据图表97 2016-2020年货物进出口总额图表98 2020年货物进出口总额及其增长速度图表99 2020年主要商品出口数量、金额及其增长速度图表100 2020年对主要国家和地区货物进出口金额、增长速度及其比重图表101 2017-2021年货物进出口总额图表102 2021年货物进出口总额及其增长速度图表103 2021年主要商品出口数量、金额及其增长速度图表104 2021年主要商品进口数量、金额及其增长速度图表105 2021年对主要国家和地区货物进出口金额、增长速度及其比重图表106 2016-2020年全部工业增加值及其增速图表107 2020年主要工业产品产量及其增长速度图表108 2017-2021年全部工业增加值及其增长速度图表109 2021年主要工业产品产量及其增长速度图表110 2021-2022年规模以上工业增加值同比增长速度图表111 行业资本来源图表112 大基金一期、二期政策对比图表113 大基金一期产业链的投资额占比图表114 大基金一期产业链的投资额图表115 大基金一期资金流向图表116 大基金二期投资流向图表117 大基金推动产业发展侧重点图表118 中国主要地方集成电路产业基金规模图表119 2020年我国直接从事集成电路产业人员规模图表120 2021年**高校成立的集成电路学院图表121 2021年**高校成立的集成电路学院（续）图表122 中国光刻机产业发展历程图表123 中国光刻机企业工艺节点进程图表124 国产光刻机上游产业链图表125 国产光刻产业链布局图表126 国产光刻产业链技术进展图表127 光刻机应用场景图表128 中国光刻机企业地区分布图表129 2020-2021年中国大陆光刻机采购情况图表130 光刻机企业性质图表131 2020-2023年中国光刻机进出口总量图表132 2020-2023年中国光刻机进出口总额图表133 2020-2023年中国光刻机进出口（总量）结构图表134 2020-2023年中国光刻机进出口（总额）结构图表135 2020-2023年中国光刻机贸易逆差规模图表136 2020-2021年中国光刻机进口区域分布图表137 2020-2021年中国光刻机进口市场集中度（分国家）图表138 2021年主要贸易国光刻机进口市场情况图表139 2022年主要贸易国光刻机进口市场情况图表140 2020-2021年中国光刻机出口区域分布图表141 2020-2021年中国光刻机出口市场集中度（分国家）图表142 2021年主要贸易国光刻机出口市场情况图表143 2022年主要贸易国光刻机出口市场情况图表144 2020-2021年主要省市光刻机进口市场集中度（分省市）图表145 2021年主要省市光刻机进口情况图表146 2022年主要省市光刻机进口情况图表147 2020-2021年中国光刻机出口市场集中度（分省市）图表148 2021年主要省市光刻机出口情况图表149 2022年主要省市光刻机出口情况图表150 国内外半导体设备企业研发阶段图表151 2021年中国各类激光器市场占比图表152 2015-2023年全球光学镜头行业市场规模、增速及预测图表153 2017-2021年中国光学镜头行业市场规模图表154 光刻气体种类图表155 2020-2021年全球电子气体市场规模图表156 2021-2025年中国集成电路用电子特气市场规模图表157 国产电子特气供应商产品突破图表158 国产电子特气供应商募资扩产计划图表159 国产电子特气供应商现有产能及预计新增产能情况图表160 光掩膜版行业内主要企业图表161 掩膜版行业格局图表162 全球各大厂商可供应的高端产品情况图表163 国内掩模版市场格局图表164 半导体检测设备分类及检测属性图表165 2017-2021年中国半导体测试设备市场规模情况图表166 涂胶显影设备InLine是未来趋势图表167 华卓精科主营业务&产品图表168 硅片台双台交换系统参数性能图表169 启尔电机浸没式系统研究总体方案图表170 EpolithA075型参数图表171 科益虹源股权结构图图表172 科益虹源企业发展历程图表173 国望光学股权图图表174 2021年华特气体业务构成图表175 华特气体主要气体产品图表176 凯美特气主要产品及应用图表177 2021年凯美特气收入结构图表178 2022H1凯美特气各项业务毛利率图表179 清溢光电公司掩膜板产品类图表180 2021年清溢光电主营业务收入结构图表181 清溢光电公司半导体产品及客户情况图表182 菲利华光掩膜版客户端链条图表183 SEpAI新型CD-SEM/EDS图表184 芯源微公司发展历程图表185 芯源微公司主营产品包含光刻工序涂胶显影设备&单片式湿法设备两大类图表186 光刻胶按显示效果分类图表187 光刻胶应用制程及分类图表188 光刻胶的主要技术参数图表189 光的特性限制了光刻的极限分辨率图表190 光刻胶成分及作用图表191 光刻胶下游对应产品类型图表192 光刻胶上下游产业链图表193 光刻胶的发展历程图表194 2010-2020年全球光刻胶市场规模图表195 2020年全球半导体光刻胶细分市场结构图表196 光刻胶主要生产企业图表197 全球主要光刻胶企业量产与研发节点图表198 2020年中国光刻胶国产化率状况图表199 2015-2020年中国光刻胶市场规模及同比增速图表200 国内企业逐步突破高端光刻胶图表201 国内光刻胶新增产能建设图表202 容大感光光刻胶产品图表203 全球光刻胶技术来源国分布图表204 各类制程主要芯片及下游应用图表205 主要晶圆代工厂不同进程芯片量产时间图表206 芯片按功能划分图表207 2016-2021年中国集成电路产业销售规模及增速图表208 2011-2021年中国集成电路产量及增速图表209 2016-2021年中国集成电路子行业市场规模变化图表210 2016-2021年中国集成电路子行业占比统计图表211 2021-2022年中国集成电路月度产量及增长情况图表212 2021-2022年中国集成电路累计产量及增长情况图表213 2015-2021年我国封装测试行业销售额情况图表214 2022年全球前**半导体封测（OSAT）企业图表215 中国大陆半导体封测领域TOP10企业**量排行榜图表216 四阶段封装技术发展图表217 先进封装朝两个方向发展发展方向图表218 小间距LED、MiniLED、MicroLED对比图表219 2017-2022年中国LED市场规模及预测图表220 全球LED行业市场区域竞争格局图表221 中国LED应用领域分布情况图表222 光谱图表223 中国光刻机现有产品图表224 中国光刻技术面临的困难与挑战图表225 2015-2022年光刻机领域专利申请及授权图表226 光刻机领域专利申请的类型图表227 光刻机技术主要集中的技术分支图表228 光刻机技术**数量排名图表229 2003-2022年光刻机技术**集中度图表230 2018-2022年光刻机技术专利申请的新进入者图表231 光刻机技术专利申请的热点图表232 光刻机技术专利申请旭日图图表233 早期接触接近式光刻技术图表234 步进式投影示意图图表235 普通光刻技术（正性光刻）图表236 双重图案技术图表237 双重图案技术中的自对准间隔技术图表238 自对准间隔技术的四重图案化图表239 45nm制程下一代光刻技术两种发展轨迹图表240 浸没式光刻机与传统光刻技术对比图表241 EUV与ArFi工艺对比图表242 EUV技术难点与解决措施图表243 “02专项”目标图表244 “02专项”部分参与单位图表245 第五代光刻机光源图表246 EUV研发的五大难题问题类型图表247 **分辨光刻机研制的意义图表248 上海微电子发展历程图表249 SMEE主营产品分类图表250 600系列光刻机分类图表251 500系列光刻机分类图表252 300系列光刻机分类图表253 200系列光刻机分类图表254 上海微电子IC前道光刻工艺与国际先进水平差距明显图表255 SMEE股权结构图表256 2010-2022年上微电专利申请情况图表257 芯碁微装泛半导体设备产品图表258 2015-2022年芯碁微装专利申请情况图表259 芯碁微装**类型分布图表260 2022年芯碁微装**公开情况图表261 2022年芯碁微装在研光刻设备相关项目情况图表262 芯碁微装研发人员情况图表263 2019-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司总资产及净资产规模图表264 2019-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司营业收入及增速图表265 2019-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司净利润及增速图表266 2021年合肥芯碁微电子装备股份有限公司主营业务分行业、产品、地区、销售模式图表267 2021-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司营业收入情况图表268 2019-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司营业利润及营业利润率图表269 2019-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司净资产收益率图表270 2019-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司短期偿债能力指标图表271 2019-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司资产负债率水平图表272 2019-2022年合肥芯碁微电子装备股份有限公司运营能力指标图表273 江苏影速集成电路装备股份有限公司股权结构图表274 影速光刻机产品种类与性能图表275 LP3000/8000技术参数表图表276 Q7500D/DiAuto7技术参数表图表277 SM300/SM100技术参数表图表278 R2R800技术参数表图表279 IC250/IC150技术参数表图表280 2020-2023年无锡影速公开**技术情况图表281 2016-2022年无锡影速专利申请情况图表282 北京半导体**设备*关系图谱图表283 北京半导体**设备*不同产品参数图表284 BG-401A双面曝光机主要技术特点图表285 BG-406双面曝光机主要技术特点图表286 SB-402双面曝光机主要技术特点图表287 2017-2022年中科院四十五所专利申请情况图表288 晶普科技光刻机产品图表289 2017-2022年*光电技术*专利申请情况图表290 2018-2026年全球主要半导体晶圆代工厂资本开支及预测图表291 国内晶圆制造厂商积极扩产图表292 2023-2030年中国集成电路累计产量预测http://fuai.cn.b2b168.com
